미국에서 특허 출원 뒤 특허 등록까지 걸리는 기간이 짧아질 전망이다. 연방의회가 1952년 이후 60년 가까이 만에 처음으로 특허법을 최근 크게 개정했기 때문이다. 개정안은 지난 9일 상원을 통과한 뒤 16일 버락 오바마 대통령의 서명을 거쳐 정식 발효됐다.

개정된 특허법은 연방 특허상표청(Patent and Trademark Office)이 자율적으로 사용할 수 있는 재원을 늘리도록 허용, 특허청이 특허 심사관을 대폭 증원해 심사기간 단축을 할 수 있도록 했다.

또 220여년 동안 고수해 오던 특허제도의 원칙이던 선 발명주의를 폐기하는 대신 `선 출원주의’를 채택했다.

이번 특허법 개정은 특허심사 기간을 단축시켜 짧은 기간 내 새 발명품을 시장에 출시토록 함으로써 경제를 활성화한다는 차원에서 이뤄졌다. 또 특허 소송으로 인한 과다한 비용 절감의 목적도 있다.

연방 특허청에는 현재 120만건의 특허가 출원돼 있는 상태로, 특허 출원 뒤 심사를 거쳐 특허권을 받을 때까지 평균 3년이라는 긴 시간이 걸리고 있다.

오바마 대통령은 특허법 개정안에 서명한 뒤 “우리는 더 이상 늑장을 부릴 수 없다”면서 “새로운 아이디어로 일자리를 좀 더 쉽고 빠르게 만들어야 한다”고 강조했다.