본국 산업자원부 기술표준원은 1㎚(1㎚는 10억분의 1m로 대략 머리카락의 10만분의 1 두께)의 정확도를 갖는 반도체용 박막의 비파괴분석방법을 세계 최초로 개발, 국제표준화기구(ISO)에 신규 표준으로 제안했다고 18일 밝혔다. 기술표준원은 지난 5월 이탈리아에서 개최된 국제표준화총회에서 이에 대한 발표를 완료했으며 전자현미경 종주국인 일본과 유럽국가에서 적극적 관심을 보여 규격안의 제출을 요청받았다고 설명했다. 기술표준원은 차세대 반도체 분석기술 개발에 따라 선진국들이 표준의 선점으로 합법적인 기술장벽을 만들어 자국시장을 보호하는 현실에서 반도체 분야의 국제표준을 실질적으로 이끌어나갈 수 있는 계기를 마련했다고 덧붙였다.
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